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攝像頭模組清洗機(jī)CMC-800

產(chǎn)品參數(shù)

  • 產(chǎn)品代碼：
  • 包裝規(guī)格：
  • 應(yīng)用范圍：
  • 產(chǎn)品描述：

產(chǎn)品詳情

產(chǎn)品詳細(xì)

機(jī)器簡(jiǎn)介：

CMC-800是攝像頭模組專(zhuān)業(yè)清洗機(jī)，用於攝像頭類(lèi)產(chǎn)品，如wafer，CMOS, Holder等表面微塵清洗。

機(jī)器特點(diǎn)：

1、攝像頭類(lèi)模組類(lèi)產(chǎn)品表麵粉塵，雜質(zhì)專(zhuān)用清洗機(jī)器；

2、鏡面鏽鋼一體化封閉機(jī)身，對(duì)工作環(huán)境無(wú)污染，適合無(wú)塵車(chē)間使用要求；

3、可更換清洗盤(pán)清洗多種產(chǎn)品，清洗盤(pán)按產(chǎn)品定做；

4、PLC自動(dòng)控制，操作方便快捷；

5、透明防爆前門(mén)，安全作業(yè)，便於觀(guān)察；

6、全系統(tǒng)儀表顯示，隨時(shí)監(jiān)控清洗狀況；

7、採(cǎi)用二流體清洗，清洗精度高，對(duì)產(chǎn)品零損傷，純水消耗量極小；

8、旋轉(zhuǎn)式噴桿，避免二次污染產(chǎn)品；

9、配備靜電消除裝置、腔壁加熱裝置，輔助清洗達(dá)到最佳效果；

10、配備2級(jí)空氣過(guò)濾系統(tǒng)，壓縮空氣符合ISO8573、1標(biāo)準(zhǔn)；

11、機(jī)身緊湊，佔(zhàn)用面積小；

12、完全使用超純水清洗，符合RoHS標(biāo)準(zhǔn)。

機(jī)器規(guī)格：

設(shè)備外觀(guān)尺寸

880mm（L）×960mm（W）×1880mm（H）

清洗盤(pán)規(guī)格

定制（清洗盤(pán)直徑＜?550mm)

清洗方式

二流體清洗

乾燥方式

高速離心甩乾

電源供應(yīng)

AC380V 50HZ

總功率

7KW

耗電量

清洗時(shí): 3.5kw/h

待機(jī)時(shí): 1kw/h

傳動(dòng)馬力

3HP

環(huán)境過(guò)濾方式

0.3μm；99.999%

空氣過(guò)濾方式

1μm×1；0.01μm×1

離心轉(zhuǎn)速

100-1500RPM

純水消耗量

0-7L/Min

氣體消耗量

10-30m3/H

清洗壓力

液體壓力：3-8Kgf/cm2     空氣壓力：0.2-0.5Mpa

DI水供應(yīng)

流量：＞7LPM  電阻率：＞17MΩ

氣源供應(yīng)

壓力：0.45-0.7Mpa；流量：＞30m3/H（潔淨(jìng)度符合清洗要求）

純水入口徑

?12mm軟管或PT1/2″內(nèi)螺紋

氣源入口徑

?12mm氣管

排水出口徑

PT 1″內(nèi)螺紋

排氣口口徑

4″×2（需加強(qiáng)抽風(fēng),風(fēng)速大於3m/sec）

機(jī)器淨(jìng)重

450KG